輝光放電光譜儀

德國Spectruma 輝光放電光譜儀 (GD-OES)，主打縱深分析，意指可分析樣品表面成分及厚度，了解鍍層或表面處理工程成效，不限元素，微米奈米級的鍍層都能輕鬆掌握，適用於多種領域，如熱處理(滲碳、滲氮、碳氮共滲)、鍍鋅鋼板、鋁合金鍍層、薄膜太陽能晶片等等。

「縱深分析」(Depth Profile Analysis)是一種分析方法，用於研究材料或系統中的元素、成分或特性如何隨著深度變化而變化。這種分析通常使用各種技術，例如光譜學、質譜儀、X射線衍射等，來測量材料的表面到深層的特性變化。通過對材料的深度剖析，可以了解不同深度的成分或特性的分佈情況，從而得出有關材料結構、成長機制、化學反應等方面的信息。

輝光放電光譜儀 利用直流電壓放電系統搭配高解析CCD光學系統，輕鬆得到清晰縱深分析(深度v.s.含量)圖表、詳細數據表格，另有成分分析功能，可準確分析塊材元素含量。